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靶材的发展前景,钨坩埚厂家为您介绍

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靶材的发展前景,钨坩埚厂家为您介绍

发布日期:2016-07-27 作者: 点击:

钨坩埚制造厂家

       钨-钛靶材作为光伏电池镀膜材料是近年来发展起来的,它作为第三代太阳能电池的阻挡层是上佳选择。 


  由于 W-Ti 系列薄膜具有非常优良的性能,近几年来在钨坩埚厂家的应用量急剧增加,2008年W-Ti 靶材世界用量已达到400t,随着光伏产业的发展,这种靶材的需求量会越来越大。


       具行业预测其用量还会有很大的增加。国际太阳能电池市场以100%的速度增长,目前世界有30 多公司参与太阳能市场的进一步开发, 并已有的公司产品投入市场, 如德国的Wverthsurlfulcell,美国的Global solar Energy ,日本的Honda showa Solar shell ,日立金属公司等。我国研发的超大尺寸、高密度、高纯W-Ti 靶材,是属于新型的离子溅射镀膜靶材料。可广泛应用于显示屏的阻挡层或调色层,笔记本电脑的装饰层、电池的封装、太阳能(光伏)电池的阻挡层,具有很好市场前景和经济效益。另一方面又可带动我国钨产业的产品升级换代,获得更高的附加值。


本文网址:http://www.wumutai.com/news/357.html

关键词:钨坩埚厂家,钨坩埚制造厂家,钨坩埚生产工艺

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